性能指标：电镜分辨率：高真空模式：0.7 nm @ 15 kV, 1.4 nm @ 1 kV,1.7 nm@500 V； 减速模式：1.0 nm @ 1 kV-SE,1.2 nm@200 V-SE; 景深模式：2 nm@30 kV； 低真空模式：3 nm @ 30kV-SE, 2 nm @ 30 kV-BSE； 放大倍数@30 kV：4ｘ-1,000,000ｘ； 加速电压：200 V～30 kV，连续可调；束流大小：2pA～400nA。 物镜模式（TriLensTM三物镜系统）：超高分辨模式、分析模式、景深模式、大视野模式、无交叉模式 探测器：SE探测器（TriSETM）：In-Chamber SE（样品室）、In-Beam SE（极靴内）、SE（BDM）; BSE探测器（TriBETM）：In-Chamber BSE、Mid-Angle BSE、In-Beam BSE。低真空二次电子检测 器(LVSTD)；样品室红外CCD探测器。 WITec共聚焦拉曼显微镜：532 nm（75 mW）和785 nm（125 mW）激发波长； 刻线光栅：配置300, 600, 1200 lines/mm@500 nm，全自动切换； 光谱分辨率：优于1.5cm-1； 光学物镜：WD=4.0 mm，100x，NA=0.75； 扫描范围：250μm*250μm*250μm。 共聚焦分辨率：2 μm（532 nm）； 图像空间分辨率XY方向：360nm（532nm）； 光谱范围：95-4000cm-1（532nm）；

主要应用：该设备集成了扫描电子显微镜与WITec共聚焦拉曼成像的两个系统，两者分别具有亚纳米和衍射限制的200-300 nm分辨率。可提供独立SEM和共焦拉曼显微镜的所有功能和特性，并且能够将扫描阶段的样品自动转移至光学显微镜处进行原位表征，最终可获取拉曼和SEM的叠加图像。可应用于材料科学、半导体、光电、太阳能电池、光刻胶、生命科学等领域。

仪器说明：1、WITec共聚焦拉曼光谱显微镜——更高的共焦拉曼成像速度、灵敏度和分辨率；优秀的深度分辨率适合三维图像生成和深度分析；非破坏性成像技术：样品无需染色固定； 2、肖特基场发射高分辨扫描电镜——最新TriglavTM电子镜筒、TriLensTM物镜和探测系统，拥有极佳的信噪比，能够获取各种纳米材料最佳的表面细节、出色的形貌和成分衬度；尤其是低电压或电子减速模式下对电子束高敏感的材料或不导电材料的成像（低k系数介电材料、光刻胶、不导电材料、原始状态的生物材料）。